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[반도체실무과정] 8대공정 CVD

교육 과정 사진
강좌구성:
  
9시간 (8강)
수료증:
  
발급 가능
수료기준:
  
진도율 80%이상, 시험 2회
수강후기 (1)
과정정보
커리큘럼

수강후기

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    일반
    d*******72023-09-23
    cvd에 대해서 자세히 알게되어 좋은 강의었습니다. 깊이있게 배울 수 있었어요.

    과정소개

    - CVD의 정의 및 원리, CVD 막의 형성 방법, 막의 형성 매카니즘에 대항여 설명합니다.

    - CVD 공정의 특징과 증착되는 막질 종류에 대해 설명합니다.

    - ALD 반응증착이 기존 CVD 방식과 다른 점을 설명합니다.


    *해당 과정은 인정신청 유효기간 만료로 2024.12.01.(일) 개강반부터 NCS 수료증 발급이 되지 않사오니, 양해 부탁드립니다.
    *12월까지 운영 후 폐강될 예정이오니, 수강에 참고 부탁드립니다.

    학습대상

    - 반도체 제조 공정 관련 직무 종사자 

    학습목표

    - CVD 공정의 학습 과정을 설명할 수 있다.

    - CVD 공정의 정의와 원리를 설명할 수 있다.

    - CVD 방식의 종류와 장단점을 설명할 수 있다.

    - CVD 막의 종류를 설명할 수 있다.​ 

    교수소개

    엄 중 섭

     

    [경력]

    - 현)한국반도체기술교육원​

    - 삼성전자주식회사/SOC PIE그룹(E6 수석)​​

학습내용

차시내용
1차시CVD 과정 소개
2차시CVD의 용어
3차시CVD의 정의 및 원리
4차시CVD 방식의 종류와 장단점 (1)
5차시CVD 방식의 종류와 장단점 (2)
6차시CVD 막의 종류
7차시MOCVD
8차시CVD 불량 사례와 CVD 엔지니어의 직무

수료기준

수료기준
총 진도율중간평가최종평가과제
80% 이상평가비율 10% 반영평가비율 90% 반영-
반영된 평가 합산 60 이상