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반도체 공정기초 및 양산설비

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교육 과정 사진
강좌구성:
  
12시간 (11강)
수료증:
  
발급 가능
수료기준:
  
진도율 80%이상, 시험 2회
수강후기 (1)
과정정보
커리큘럼

수강후기

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  • 수료
    일반
    b********92024-08-06
    전반적인 양산 기술에 대해 이해 할 수 있었습니다. 특히 반도체 설비 관련 여러 장비에 대해 설명해주어 도움이 많이 되었습니다.

    과정소개

    ​- 산화 공정, CVD, PVD, Etching등에 대하여 학습내용입니다.


    *해당 과정은 인정신청 유효기간 만료로 2024.12.01.(일) 개강반부터 NCS 수료증 발급이 되지 않사오니, 양해 부탁드립니다.
    *12월까지 운영 후 폐강될 예정이오니, 수강에 참고 부탁드립니다.

    학습대상

    - 반도체 제조 장비 관련 직무 종사자 

    학습목표

    - 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있다.

    - 반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있다.​ 

    교수소개

    김 준 성

     

    [경력]

    - 현)한국반도체기술교육원​

     

    - 삼성전자 주식회사/공정기술기룹(기술원)

학습내용

차시내용
1차시반도체 Fab과 Utility
2차시산화공정
3차시CVD
4차시PECVD
5차시LPCVD
6차시APCVD와 HDPCVD
7차시MOCVD와 ALD
8차시PVD
9차시Photo Lithography
10차시Etching
11차시Wet Etching과 반도체 설비 동향

수료기준

수료기준
총 진도율중간평가최종평가과제
80% 이상평가비율 10% 반영평가비율 90% 반영-
반영된 평가 합산 60 이상